¿Cuál es el propósito de utilizar una 'placa central' en aplicaciones resorte ondulado de múltiples vueltas y de alto apilamiento?

En aplicaciones donde la relación entre la altura libre y el diámetro medio ($H_f/D_m$) excede 1,5, el resorte ondulado es propenso a pandearse lateralmente bajo carga. Se utiliza una placa de centrado o una barra guía interna para proporcionar estabilidad lateral. La física es similar al pandeo de una columna delgada; la carga crítica de pandeo $P_{cr}$ es función de la rigidez lateral del resorte. El uso de una guía garantiza que la deflexión siga siendo puramente axial, evitando que el resorte entre en contacto con las paredes del orificio y genere desgaste abrasivo o histéresis por fricción.